科技部論證氧陰極低槽電壓離子膜電解制燒堿技術項目
2014-05-13 19:17:30
admin
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據科技部網2009年7月3日訊 近日，科技部高新司在北京召開了國家科技支撐計劃“氧陰極低槽電壓離子膜法電解制燒堿技術”重點項目可行性論證會。
項目在小試技術的基礎之上，開發納米碳材料/金屬納米粒子復合催化劑等電極材料的工業化制備技術以及氧陰極電極組裝工藝的工業化技術，達到高水平，并將制備的氧陰極電極應用于氯堿工業的核心裝備－離子膜電解槽中，從而達到大幅度降低能耗的目的；通過200噸燒堿/年規模的氧陰極離子膜電解槽的設計制造與運行評價，開發裝載氧陰極電極的離子膜電解槽的成套制造技術以及運行工藝技術；在國際上首次建設20萬噸燒堿/年規模氧陰極離子膜燒堿工業化生產線。
與會專家聽取了項目可行性匯報，一致認為本項目以石油化工產業調整與振興規劃所涉及的需求為牽引，開發具有自主知識產權的氧陰極低槽電壓離子膜法電解制燒堿技術，形成規模化產業示范，對發揮科技支撐作用提升我國氯堿工業的裝備技術水平、推動氯堿工業節能減排、實現石油化工行業振興具有重要意義。